[发明专利]一种利用相位衍射元件实现干法全息光刻方法及系统在审
| 申请号： | 202310040139.8 | 申请日： | 2023-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN116047870A | 公开（公告）日： | 2023-05-02 |
| 发明（设计）人： | 赵东;黄坤 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/00 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 安丽 |
| 地址： | 230026 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种利用相位衍射元件实现干法全息光刻的方法及系统，基于输出面全息图像的成本函数优化相位衍射元件的相位掩膜，可用于相位衍射元件加工；搭建光刻实验光路系统，实现全息光刻。本发明无需成像透镜,仅通过优化衍射元件的相位，利用其衍射光场在特定距离处的光场分布，即可生成小尺寸的全息图像，并将其用于干法全息光刻，降低光刻工艺的成本，开辟一条全新的光刻系统。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 利用 相位 衍射 元件 实现 全息 光刻 方法 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学技术大学，未经中国科学技术大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202310040139.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
