[发明专利]一种T型苯并咪唑三阶非线性光学材料及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 202310033944.8 申请日: 2023-01-10
公开(公告)号: CN116003329A 公开(公告)日: 2023-04-25
发明(设计)人: 贾建洪;蒋见睿;方胜超;黄健;王丹凤;佘远斌 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: C07D235/18 分类号: C07D235/18;G02F1/361
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 陈升华
地址: 310014 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明属于有机合成技术领域,具体涉及一种T型苯并咪唑三阶非线性光学材料及其制备方法和应用。苯并咪唑分子具有共轭的大π平面结构,而且其还具有多个可修饰的活性位点,是一种光学性能优异的荧光材料。本发明是以苯并咪唑为母体,在一端引入吸电基团,增加母体吸电性,并在另一端通过Suzuki偶联接入不同的供电子基团,形成一个T型,增强了分子内电荷转移。本发明采用的技术方案是:本发明提供一类式(DEN)所示:式(DEN)中:R1为硝基或氰基,R2为三芳胺基或苯基。
搜索关键词: 一种 苯并咪唑 非线性 光学材料 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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