[发明专利]一种T型苯并咪唑三阶非线性光学材料及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种T型苯并咪唑类三阶非线性光学材料，其特征在于，所述的T型苯并咪唑类三阶非线性光学材料结构式如式(DEN)所示，

式(DEN)中：R₁为硝基或氰基，R₂为三芳胺基或苯基。

2.根据权利要求1所述的一种T型苯并咪唑类三阶非线性光学材料，其特征在于，所述的T型苯并咪唑类三阶非线性光学材料结构式如下：

3.一种如权利要求1所述的T型苯并咪唑类三阶非线性光学材料的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：

(1)取代反应

在溶剂乙酸中，冰浴条件下，向式(I)所示的4,5-二甲基-1,2-苯二胺中滴加溴素，滴毕后反应3～8小时得到式(II)所示的二溴代化合物；

(2)缩合反应

在溶剂乙酸中，式(Ⅱ)所示的3,6-二溴-4,5-二甲基-1,2-苯二胺与对硝基苯甲醛或对氰基苯甲醛在110～140℃下进行缩合反应，得到式(Ⅲ)所示的二溴代苯并咪唑类化合物；

(3)Suzuki偶联反应

在氮气保护下，式(Ⅲ)所示的二溴代化合物加入溶剂A中，在碱A、钯催化剂的作用下，与苯硼酸或三芳胺-4-硼酸在60～110℃下进行Suzuki偶联反应，得到式(DEN)所示的苯并咪唑衍生物；

4.如权利要求3所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述的式(Ⅰ)所示的4,5-二甲基-1,2-苯二胺与溴素的摩尔比为1：2～5。

5.如权利要求3所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述的式(II)所示的3,6-二溴-4,5-二甲基-1,2-苯二胺与对硝基苯甲醛或对氰基苯甲醛的摩尔比为1：0.9～1。

6.如权利要求3所述的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，所述溶剂A为甲苯、乙醇和水的混合物，体积混合比为8～12：4～6：0.5～2。

7.如权利要求3所述的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，所述钯催化剂为四(三苯基膦)钯Pd(PPh₃)₄；

所述碱A为碳酸钾或碳酸氢钾或碳酸钠或碳酸氢钠。

8.如权利要求3所述的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，所述式(Ⅲ)所示的二溴代化合物、苯硼酸或三芳胺-4-硼酸、钯催化剂和碱A的摩尔比为1：2～5：0.1～0.5：5～10。

9.一种如权利要求1或2所述T型苯并咪唑类三阶非线性光学材料在制备非线性光学器件的应用。