[发明专利]基于关注区域的缺陷检测在审

专利信息
申请号: 202310032591.X 申请日: 2023-01-10
公开(公告)号: CN116631886A 公开(公告)日: 2023-08-22
发明(设计)人: S·考特卡尔;S·劳特;S·K·伊赛提;N·M·S·钱丹 申请(专利权)人: 应用材料以色列公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66;G01N21/88;G01N21/95;G06T7/00;G06T17/00;G06V10/25
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 侯颖媖;张鑫
地址: 以色列瑞*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了辅助半导体样品上的缺陷检测的系统和方法。所述方法包括:获得提供管芯上的要检查的多个关注区域(CA)的信息的第一图;创建包围多个CA的多个边界矩形(BR);以及将多个BR压缩为压缩矩形集合以满足预定义的检查容量,同时尝试最小化由压缩矩形集合包围的非CA区域,从而产生提供压缩矩形集合的信息的第二图。所述压缩包括构造表示多个BR和压缩矩形的R树结构,并且基于预定义的检查容量从R树结构中选择节点集合,所述节点集合表示压缩矩形集合。所述第二图可用于过滤指示管芯上的缺陷候选分布的缺陷图。
搜索关键词: 基于 关注 区域 缺陷 检测
【主权项】:
暂无信息
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