[实用新型]一种实现氢气循环利用的CVD装置有效
| 申请号: | 202222783689.2 | 申请日: | 2022-10-21 |
| 公开(公告)号: | CN218291111U | 公开(公告)日: | 2023-01-13 |
| 发明(设计)人: | 钟观发;李硕;张红生;吴坚;蒋方丹 | 申请(专利权)人: | 嘉兴阿特斯技术研究院有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/02 |
| 代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 刘二艳 |
| 地址: | 314000 浙江省嘉兴市秀*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | 本实用新型提供了一种实现氢气循环利用的CVD装置,包括CVD设备,所述CVD设备包括预热模块、沉积模块、工艺气体存储模块、尾气处理模块以及氢气循环模块;所述预热模块与所述沉积模块相连;所述工艺气体存储模块分别与所述预热模块和所述沉积模块相连;所述氢气循环模块与所述预热模块构成循环连接;所述沉积模块与所述尾气处理模块相连;所述CVD装置针对现有采用氢气进行硅片预热时产生的严重浪费的问题,优化了氢气的管路设计,使预热用氢气实现了循环利用,极大地节约了资源,同时提升了预热效率,具有较好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 实现 氢气 循环 利用 cvd 装置 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





