[实用新型]一种成像系统有效
| 申请号： | 202222036746.0 | 申请日： | 2022-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN218297994U | 公开（公告）日： | 2023-01-13 |
| 发明（设计）人： | 张超;徐金喆 | 申请（专利权）人： | 威高（苏州）医疗器械研究院有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/01 | 分类号： | G01N21/01;G01N21/64;C12Q1/686 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 牛亭亭 |
| 地址： | 215163 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及光学系统领域，具体公开了一种成像系统，包括光源装置、匀光装置、投影光学系统和成像光学系统，匀光装置设置于光源装置的出光光路上，使得光源装置出射的激发光通过匀光装置后光能量均匀。匀光装置的出光端和待检区域位于投影光学系统的为物像共轭关系的位置，投影光学系统将匀光装置的出光端成像到待检区域，使得匀光装置出射的激发光照射到样品，成像光学系统用于获取样品在激发光照射下产生的光，并基于获取的光进行成像。由于通过投影光学系统将匀光装置的出光端成像到待检区域，而匀光装置的出光端出射的激发光能量均匀，因此使得投射到待检区域的激发光能量均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 成像 系统 | ||
【主权项】：
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