[实用新型]一种成像系统

说明书

本实用新型涉及光学系统领域，具体公开了一种成像系统，包括光源装置、匀光装置、投影光学系统和成像光学系统，匀光装置设置于光源装置的出光光路上，使得光源装置出射的激发光通过匀光装置后光能量均匀。匀光装置的出光端和待检区域位于投影光学系统的为物像共轭关系的位置，投影光学系统将匀光装置的出光端成像到待检区域，使得匀光装置出射的激发光照射到样品，成像光学系统用于获取样品在激发光照射下产生的光，并基于获取的光进行成像。由于通过投影光学系统将匀光装置的出光端成像到待检区域，而匀光装置的出光端出射的激发光能量均匀，因此使得投射到待检区域的激发光能量均匀。

技术领域

本实用新型涉及光学系统领域，特别是涉及一种成像系统。

背景技术

荧光检测是聚合酶链式反应(PCR)中常用的技术手段，用于检测PCR反应中目标DNA的含量。

荧光检测可以分为点信号检测和面信号检测，点信号检测采用光电倍增管等光电探测器，探测灵敏度高，然而由于是单点探测，通常需要逐点扫描，因此其检测速度较低。相比于点信号检测，面信号检测为成像检测，即通过光学成像的手段一次获取全部待检信息，大大缩减了检测时间。并且，随着面阵探测器工艺的成熟，以及一些新型成像芯片的研究和发展，面阵探测器的灵敏度不断提高，因此面信号荧光检测的优势越实用新型显。

然而，现有的面信号检测方法存在激发光照度不均匀，激发光照度会影响产生的荧光信号，因此激发光照度不均匀会对荧光信号的强度引入误差，从而会影响最终检测结果。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种成像系统，能够提高投射到待检区域的激发光能量的均匀性。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种成像系统，包括光源装置、匀光装置、投影光学系统和成像光学系统，所述匀光装置设置于所述光源装置的出光光路上，用于使得所述光源装置出射的激发光通过所述匀光装置后光能量均匀；

所述匀光装置的出光端和待检区域位于所述投影光学系统的为物像共轭关系的位置，所述投影光学系统用于将所述匀光装置的出光端成像到所述待检区域，使得所述匀光装置出射的所述激发光照射到样品，所述成像光学系统用于获取所述样品在所述激发光照射下产生的光，并基于获取的光进行成像。

优选地，所述投影光学系统包括第一透镜组和第二透镜组，所述第一透镜组的后焦距与所述第二透镜组的前焦距的比值，和所述匀光装置的出光端的尺寸与所述待检区域的尺寸的比值相等。

优选地，所述匀光装置的出光端位于所述第一透镜组的焦平面上，所述待检区域位于所述第二透镜组的焦平面上。

优选地，所述待检区域和所述成像光学系统的成像装置的靶面位于所述成像光学系统的为物像共轭关系的位置，所述成像光学系统还用于将所述待检区域成像到所述成像光学系统的成像装置的靶面。

优选地，所述投影光学系统包括第一透镜组和第二透镜组，所述成像光学系统包括所述第二透镜组和第三透镜组，所述成像系统还包括二向色镜；

所述二向色镜位于所述第一透镜组和所述第二透镜组之间光路上，且位于所述第二透镜组和所述第三透镜组之间光路上，用于将所述样品产生的光和所述激发光分离。

优选地，所述第一透镜组的后焦距与所述第二透镜组的前焦距的比值，和所述匀光装置的出光端的尺寸与所述待检区域的尺寸的比值相等，以及所述第二透镜组的前焦距与所述第三透镜组的后焦距的比值，大于等于所述待检区域的尺寸与所述成像光学系统的成像装置的靶面尺寸的比值。

优选地，所述第一透镜组的焦距和所述第三透镜组的焦距相同，所述第一透镜组到所述第二透镜组的光程和所述第三透镜组到所述第二透镜组的光程一致。