[实用新型]一种划片机真空常开系统有效
| 申请号： | 202221923914.1 | 申请日： | 2022-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN218227322U | 公开（公告）日： | 2023-01-06 |
| 发明（设计）人： | 袁慧珠;张明明 | 申请（专利权）人： | 苏州和研精密科技有限公司 |
| 主分类号： | B28D5/00 | 分类号： | B28D5/00 |
| 代理公司： | 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 | 代理人： | 李艾 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市高*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种划片机真空常开系统，包括：真空吸附，气源通过第一管路经真空破坏单元气阀与所述真空吸附连通；第一真空发生器，所述真空吸附通过第二管路连通到所述第一真空发生器的真空端口，气源通过第三管路经真空单元气阀与所述第一真空发生器相连通；第二真空发生器，所述第二真空发生器在划片机断电时外接于气源与真空吸附之间，所述第二真空发生器的真空端口通过第四管路连通到所述真空吸附，所述第二真空发生器另一端通过第五管路经截止阀连通至气源。本实用新型在断电后仍能形成真空，保证对半导体材料吸附的稳定，降低划片机断电后半导体材料的报废率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 划片 真空 常开 系统 | ||
【主权项】：
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