[实用新型]一种线性ICP等离子体处理装置

摘要

本实用新型提供了一种线性ICP等离子体处理装置，包括腔室、进气单元、真空单元、加热单元、承载单元、等离子体源、供电单元和阻抗匹配单元；所述进气单元和真空单元分别设置于所述腔室的表面；所述加热单元设置于所述腔室的内部或外部；所述承载单元和等离子体源设置于所述腔室的内部；所述供电单元和阻抗匹配单元设置于所述腔室的外部；所述等离子体源包括嵌套组合的绝缘介质管和电感线圈；所述绝缘介质管的表面设置有进气孔和等离子体喷射孔；所述电感线圈的两端连接于供电单元和阻抗匹配单元。所述处理装置提升了等离子体的分布均匀性和处理面积，避免了绝缘介质管出现寄生沉积的现象，延长了使用寿命和维护周期，降低了处理成本。