[实用新型]一种离子渗氮炉保温底座有效

专利信息
申请号: 202220658809.3 申请日: 2022-03-23
公开(公告)号: CN217398968U 公开(公告)日: 2022-09-09
发明(设计)人: 林育周;林波;张田生;孔祥刚;吴仁红 申请(专利权)人: 深圳市正和德昌科技有限公司
主分类号: C23C8/36 分类号: C23C8/36
代理公司: 广东知产律师事务所 44838 代理人: 林红燕
地址: 518000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种离子渗氮炉保温底座,包括基座、两个保温板和保温座,所述保温座位于基座的上方,且保温座和基座之间设置第一缓冲机构,所述基座上对称开设有两个滑槽,所述保温板的底部固接有移动杆,且移动杆滑动安装在滑槽上,所述基座上设置有移动机构,所述基座的后侧开设有放置槽,所述放置槽上设置有输送机构,通过设置输送机构,进一步方便将离子渗氮炉放置到保温座上,从而解决了现有的保温底座具有一定的高度,且离子渗氮炉较重,从而不方便将离子渗氮炉安装到保温底座上这一缺点,从而提高了工作效率,也减小了劳动力,在隔热棉的作用下,对离子渗氮炉进行保温,减少热量散失,从而使得渗氮效果更好。
搜索关键词: 一种 离子 渗氮炉 保温 底座
【主权项】:
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