[实用新型]一种用于真空化学气相沉积炉的配气装置有效
申请号: | 202220594159.0 | 申请日: | 2022-03-18 |
公开(公告)号: | CN217202949U | 公开(公告)日: | 2022-08-16 |
发明(设计)人: | 薛雁凯;王吉祥;吕雷英 | 申请(专利权)人: | 山东伟基炭科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 济南诚智商标专利事务所有限公司 37105 | 代理人: | 高亭 |
地址: | 250102 山东省济南*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于真空化学气相沉积炉的配气装置,包括进气管,所述进气管包括上进气管和下进气管,所述上进气管和下进气管之间通过配气盒连接,多根上进气管的上端通过载板固定,所述载板上设有与上进气管连通的预热腔。气体经过配气装置实现了温度的提升,提高了气体利用率,确保了真空化学气相沉积炉内沉积区的气体均匀性和化学气相沉积工艺的稳定性,提高了化学气相沉积产品的质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 真空 化学 沉积 装置 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的