[实用新型]一种用于真空化学气相沉积炉的配气装置

说明书

本实用新型公开了一种用于真空化学气相沉积炉的配气装置，包括进气管，所述进气管包括上进气管和下进气管，所述上进气管和下进气管之间通过配气盒连接，多根上进气管的上端通过载板固定，所述载板上设有与上进气管连通的预热腔。气体经过配气装置实现了温度的提升，提高了气体利用率，确保了真空化学气相沉积炉内沉积区的气体均匀性和化学气相沉积工艺的稳定性，提高了化学气相沉积产品的质量。

技术领域

本实用新型涉及气相沉积炉技术领域，具体为一种用于真空化学气相沉积炉的配气装置。

背景技术

伴随着石墨材料应用市场的越来越高端化，由化学气相沉积/渗透方法 (CVD/CVI)得到的石墨表面改性产品，如热解炭涂层石墨、碳化硅涂层石墨、碳化钽涂层石墨等因其优异的物理化学性能，加强了石墨材料本身的性能，更主要的是弥补了石墨材料本身存在的缺陷，因此备受高端市场的青睐，大大提升了产品的附加值。

利用化学气相沉积/渗透方法(CVD/CVI)对炭/炭复合材料进行致密处理，可以使其结构更加致密均匀，提高密度，材料性能稳定，生产的热解炭结构可控，因此针对高端领域、高端产品的致密处理还是以化学气相沉积为主。

化学气相沉积涂层/致密的均匀性是影响产品质量的关键指标之一，要保证产品涂层/致密的均匀性，真空化学气象沉积炉内沉积区的气氛均匀性是主要影响因素，因此工艺气体配气装置的设计合理性至关重要，供气结构布局的不足，不仅影响工艺过程的稳定性，还最严重影响产品品质。

目前沉积炉在进气时，气体会直接进入入炉反应，这样不仅会使炉内温度下降影响工艺的稳定性，而且气体温度较低会直接从炉内排出，造成反应气体的浪费。

实用新型内容

本实用新型就是针对现有技术存在的上述不足，提供一种用于真空化学气相沉积炉的配气装置，气体经过配气装置实现了温度的提升，提高了气体利用率，确保了真空化学气相沉积炉内沉积区的气体均匀性和化学气相沉积工艺的稳定性，提高了化学气相沉积产品的质量。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种用于真空化学气相沉积炉的配气装置，包括进气管，所述进气管包括上进气管和下进气管，所述上进气管和下进气管之间通过配气盒连接，多根上进气管的上端通过载板固定，所述载板上设有与上进气管连通的预热腔。

优选的，所述载板的上端设有安装槽，所述安装槽内设有预热筒，所述上进气管的上端位于预热筒内，预热筒的上端设有气体扩散板，气体扩散板上均匀设有气孔，预热筒与气体扩散板组成预热腔。

优选的，所述预热筒与安装槽的底部之间设有石墨纸环，所述石墨纸环套在上进气管的外部。

优选的，所述上进气管的外侧设有与载板连接的密封环。

优选的，所述下进气管的下端设有进气管座，所述进气管座的进气口内设有密封圈。

优选的，所述配气盒下端设有支撑板，支撑板与载板之间连接有支撑柱，所述配气盒的侧壁上连接有导气管，所述导气管通过导气座与上进气管连接，所述导气座与支撑板固定。

优选的，所述下进气管的上端设有气体扩散帽，所述气体扩散帽的侧壁上均匀设有出气口。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、本实用新型气体经过配气装置实现了温度的提升，提高了气体利用率，确保了真空化学气相沉积炉内沉积区的气体均匀性和化学气相沉积工艺的稳定性，提高了化学气相沉积产品的质量。

2、本实用新型各部件之间密封良好，确保气体不会进入沉积区以外的区域，保证炉内洁净及设备安全使用。

3、本实用新型的预热筒采用可拆卸结构，底部设置了石墨纸环，不仅增加预热筒与载板之间的密封性，而且提高了清理沉降物的便利性。

附图说明