[实用新型]刻蚀冷却结构及等离子体刻蚀装置有效
| 申请号： | 202220537563.4 | 申请日： | 2022-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN217062015U | 公开（公告）日： | 2022-07-26 |
| 发明（设计）人： | 张涛;苏财钰;喻兵;黄先康;王鹏鹏 | 申请（专利权）人： | 重庆康佳光电技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 刘娜 |
| 地址： | 402760 重庆市璧*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种刻蚀冷却结构及等离子体刻蚀装置。刻蚀冷却结构包括：壳体，壳体具有第一真空腔，第一真空腔用于容置等离子体刻蚀装置的电源组件和流量检测元件中的至少一种；冷却管路，冷却管路穿过第一真空腔并伸入容置有下电极的箱体内。本实用新型解决了现有技术中等离子体刻蚀装置的冷却效果较差的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 刻蚀 冷却 结构 等离子体 装置 | ||
【主权项】：
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