[实用新型]刻蚀冷却结构及等离子体刻蚀装置

权利要求书

1.一种刻蚀冷却结构，其特征在于，包括：

壳体，所述壳体具有第一真空腔，所述第一真空腔用于容置所述等离子体刻蚀装置的电源组件和流量检测元件中的至少一种；

冷却管路，所述冷却管路穿过所述第一真空腔并伸入容置有下电极的箱体内。

2.如权利要求1所述的刻蚀冷却结构，其特征在于，所述刻蚀冷却结构还包括压力检测元件，所述压力检测元件设置在所述壳体上，用于测量所述第一真空腔内的压力。

3.如权利要求1所述的刻蚀冷却结构，其特征在于，所述刻蚀冷却结构还包括冷却机，所述冷却机与所述冷却管路连通。

4.一种等离子体刻蚀装置，其特征在于，包括：

下电极；

箱体，所述箱体具有第二真空腔，所述下电极容置在所述第二真空腔内；

权利要求1至3中任一项所述的刻蚀冷却结构；

真空组件，所述真空组件分别与所述第二真空腔和所述刻蚀冷却结构的第一真空腔连通，用于对所述第一真空腔和所述第二真空腔抽真空。

5.如权利要求4所述的等离子体刻蚀装置，其特征在于，所述刻蚀冷却结构的壳体位于所述箱体的外侧并与所述箱体密封连接。

6.如权利要求4所述的等离子体刻蚀装置，其特征在于，所述真空组件包括：

第一真空管路，所述第一真空管路与所述第二真空腔连通；

第二真空管路，所述第二真空管路分别与所述第一真空管路和所述刻蚀冷却结构的第一真空腔连通。

7.如权利要求6所述的等离子体刻蚀装置，其特征在于，所述真空组件还包括：

第一真空泵，所述第一真空泵设置在所述第一真空管路上；

第一真空阀，所述第一真空阀设置在所述第一真空管路上且位于所述第二真空管路与所述第一真空管路的连通点和所述第一真空泵之间。

8.如权利要求7所述的等离子体刻蚀装置，其特征在于，所述真空组件还包括：

第二真空泵，所述第二真空泵设置在所述第一真空管路上且位于所述第一真空泵和所述第一真空阀之间；

第二真空阀，所述第二真空阀设置在所述第一真空管路上且位于所述第二真空管路与所述第一真空管路连通点和所述第一真空腔之间。

9.如权利要求8所述的等离子体刻蚀装置，其特征在于，所述真空组件还包括第三真空阀，所述第三真空阀设置在所述第二真空管路上。

10.如权利要求9所述的等离子体刻蚀装置，其特征在于，所述真空组件还包括控制器，所述第一真空泵、所述第二真空泵、第一真空阀、第二真空阀和所述第三真空阀均与所述控制器电连接。