[实用新型]一种陶瓷真空吸盘有效
| 申请号： | 202220440306.9 | 申请日： | 2022-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN216849890U | 公开（公告）日： | 2022-06-28 |
| 发明（设计）人： | 赵振;马松华;谢洁;咸杏娟 | 申请（专利权）人： | 宜兴市九荣特种陶瓷有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683 |
| 代理公司： | 北京睿博行远知识产权代理有限公司 11297 | 代理人： | 王建文 |
| 地址： | 214222 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及一种真空吸盘，尤其是一种陶瓷真空吸盘，包括采用陶瓷制成的吸盘本体，所述吸盘本体的吸附面设有若干抽气槽，所述抽气槽的底部设有连通孔，所述吸盘本体的一端设有吸气孔，所述吸气孔与所述连通孔相通。本实用新型提供的一种陶瓷真空吸盘重量轻、耐磨、并且不会污染硅片、使用寿命长、无需频繁检测和维护。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 陶瓷 真空 吸盘 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
