[实用新型]一种用于等离子体化学气相沉积的反应腔

摘要

本实用新型公开了一种用于等离子体化学气相沉积的反应腔，包括反应腔体，反应腔体的顶部设置有进气口，进气口下方连有多个喷嘴，喷嘴的下方反应腔体底面安装有元件加热台，还包括真空抽吸口，所述真空抽吸口开设在反应腔体的底部。本实用新型的沉积反应腔，通过对真空抽气口设置位置的改进，能够使沉积气体从上至下垂直稳定的流动而不会产生湍流，从而保证等离子气体密度的统一，提高薄膜厚度的均匀性，同时能够在清洗时彻底的排出副产物。