[实用新型]一种用于等离子体化学气相沉积的反应腔

权利要求书

1.一种用于等离子体化学气相沉积的反应腔，包括反应腔体(1)，反应腔体(1)的顶部设置有进气口(2)，进气口(2)下方连有多个喷嘴(3)，喷嘴(3)的下方反应腔体(1)底面安装有元件加热台(4)，其特征在于，还包括真空抽吸口(5)，所述真空抽吸口(5)开设在反应腔体(1)的底部。

2.根据权利要求1所述的用于等离子体化学气相沉积的反应腔，其特征在于，所述真空抽吸口(5)设置在喷嘴的正下方。

3.根据权利要求1所述的用于等离子体化学气相沉积的反应腔，其特征在于，所述真空抽吸口(5)设置有多个，多个真空抽吸口(5)沿着以元件加热台(4)竖直轴线为中心的圆周方向均匀分布。

4.根据权利要求1所述的用于等离子体化学气相沉积的反应腔，其特征在于，所述真空抽吸口(5)设置有两个，两个真空抽吸口(5)相对于元件加热台(4)竖直轴线对称设置。

5.根据权利要求1所述的用于等离子体化学气相沉积的反应腔，其特征在于，包括两个反应腔体(1)，两个反应腔体(1)的真空抽吸口(5)均与真空泵相连。

6.根据权利要求4所述的用于等离子体化学气相沉积的反应腔，其特征在于，所述元件加热台(4)包括水平台(6)及水平台下方设置的支撑柱(7)，两个真空抽吸口(5)分别设置在支撑柱(7)的两侧。

7.根据权利要求6所述的用于等离子体化学气相沉积的反应腔，其特征在于，所述支撑柱(7)能够绕自身轴线做旋转运动从而带动水平台(6)旋转。

8.根据权利要求1所述的用于等离子体化学气相沉积的反应腔，其特征在于，所述多个喷嘴(3)在水平方向上沿圆周方向均匀分布。

9.根据权利要求1所述的用于等离子体化学气相沉积的反应腔，其特征在于，所述反应腔体(1)与元件加热台(4)侧壁正对处的侧壁上开设有圆弧形凹槽(8)。