[发明专利]抗干扰单像素成像边缘检测方法及系统在审
| 申请号： | 202211737269.9 | 申请日： | 2022-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN115953423A | 公开（公告）日： | 2023-04-11 |
| 发明（设计）人： | 马孟超;梁文博;高一;邓华夏;钟翔 | 申请（专利权）人： | 合肥工业大学 |
| 主分类号： | G06T7/13 | 分类号： | G06T7/13 |
| 代理公司： | 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 | 代理人： | 苗娟 |
| 地址： | 230009 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明的一种抗干扰单像素成像边缘检测方法及系统，其方法是将哈达码基图案与二阶微分算子的卷积结果，即哈达码基图案的边缘作为调制图案，并用于直接提取未知物体的边缘，而无需任何先验成像。其中ESI方案是一种差分式的边缘敏感的单像素成像边缘检测方案，可以有效的抑制噪声并消除静态光干扰，这是传统成像方式无法做到的。SESI方案是一种单步式的边缘检测方案，虽然是非差分式的，但仍然能消除静态光干扰，并且与已有的基于单像素成像的边缘检测方法相比，使得边缘检测所需要的调制图案至少减少了一半。本发明可以直接对物体进行边缘检测，无需事先成像，不受物体成像质量的限制，且环境光的干扰不会对直接边缘检测的结果造成显著影响。 | ||
| 搜索关键词： | 抗干扰 像素 成像 边缘 检测 方法 系统 | ||
【主权项】：
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