[发明专利]抗干扰单像素成像边缘检测方法及系统在审
申请号: | 202211737269.9 | 申请日: | 2022-12-30 |
公开(公告)号: | CN115953423A | 公开(公告)日: | 2023-04-11 |
发明(设计)人: | 马孟超;梁文博;高一;邓华夏;钟翔 | 申请(专利权)人: | 合肥工业大学 |
主分类号: | G06T7/13 | 分类号: | G06T7/13 |
代理公司: | 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 | 代理人: | 苗娟 |
地址: | 230009 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 抗干扰 像素 成像 边缘 检测 方法 系统 | ||
1.一种抗干扰单像素成像边缘检测方法,其特征在于,包括以下步骤,
在边缘敏感单像素成像中,ESI调制模式是通过对P+(x,y)和1-P+(x,y)与二阶微分算子执行卷积运算生成的,即
其中表示卷积运算,k(x,y)是二阶微分算子卷积核,P+(x,y)是哈达码基图案,通过公式(2)获得,
(x,y)和(u,v)分别是空间域和哈达码域的坐标,H-1(·)表示哈达码逆变换;
由公式(1)生成的一系列的调制图案Q+(x,y)和Q-(x,y)使用DMD投影到目标物体上,单像素探测器收集到来自物体反射或透射的光强信号;使用设定的调制模式来照明对象时,所获取的光谱由下式计算,
H(u,v)=B+1(u,v)-B-1(u,v) (3)
其中B+1(u,v)和B-1(u,v)是对应于Q+(x,y)和Q-(x,y)调制图案照度的测量值,对H(u,v)执行哈达码逆变换便直接获取物体的边缘;公式(3)为差分运算,因而具有抗外界环境光干扰的能力。
2.一种抗干扰单像素成像边缘检测方法,其特征在于:包括以下步骤,
在边缘敏感单像素成像中,SESI调制模式只需要通过对P+(x,y)与二阶微分算子执行卷积运算生成的,即
其中表示卷积运算,k(x,y)是微分算子卷积核;由公式(4)生成的一系列的调制图案Q+(x,y)使用DMD投影到目标物体上,单像素探测器收集到来自物体反射或透射的光强信号;当只使用公式(4)设计的调制模式来照明对象时,通过B+1(u,v)获得的频谱H+(u,v)并减去其频谱本身的平均值便可获得物体边缘的哈达码谱,即
对H(u,v)执行哈达码逆变换便可直接获取物体的边缘;公式(5)中频谱平均值可抵消环境光的影响。
3.根据权利要求2所述的单像素成像边缘检测方法,其特征在于:所述k(x,y)是一阶或二阶微分算子。
4.一种计算机系统,存储有计算机程序,所述计算机程序被处理器执行时,使得所述处理器执行如权利要求1至3中任一项所述方法的步骤。
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