[发明专利]用于处理基板的装置及用于处理基板的方法在审
| 申请号： | 202211736730.9 | 申请日： | 2022-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN116382036A | 公开（公告）日： | 2023-07-04 |
| 发明（设计）人： | 梁孝源;尹铉;郑智训;崔基熏;郑仁基;孙源湜;金泰熙 | 申请（专利权）人： | 细美事有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 张瑾 |
| 地址： | 韩国忠清南道天安*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明构思提供一种掩模处理方法。掩模处理方法包括通过将液体供应至掩模、并且在液体保留于掩模上的同时将激光照射至其上形成有特定图案的掩模的区域来处理掩模；在用于处理基板的工艺位置与从工艺位置偏离的备用位置之间移动包括配置为照射激光的激光单元的光学模块；及在将光学模块移动至工艺位置之前，将设置于备用位置的检验端口处的光学模块的状态调整成设定条件。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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