[发明专利]抛光装置及其工作方法在审
| 申请号： | 202211687043.2 | 申请日： | 2022-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN115946042A | 公开（公告）日： | 2023-04-11 |
| 发明（设计）人： | 张伟 | 申请（专利权）人： | 西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B41/04 | 分类号： | B24B41/04;B24B49/00;B24B55/00 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 张博 |
| 地址： | 710000 陕西省西安市*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种抛光装置及其工作方法，属于半导体制造技术领域。抛光装置，包括：相对设置的上抛光头和下抛光头；固定设置于所述上抛光头上的上定盘以及固定设置于所述下抛光头上的下定盘；贴附于所述上定盘表面上的上抛光垫以及贴附于所述下定盘表面上的下抛光垫；设置在所述下定盘边缘的检测单元，用于检测所述下抛光垫的表面是否存在高度大于或等于预设阈值的凸起，获得检测结果；与所述检测单元连接的报警单元，用于在所述检测结果指示所述下抛光垫表面存在高度大于或等于预设阈值的凸起时进行报警。本发明的技术方案能够提高硅片的产品品质。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 装置 及其 工作 方法 | ||
【主权项】：
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