[发明专利]基板处理装置及包括其的基板绑定系统及基板处理方法在审
| 申请号： | 202211508592.9 | 申请日： | 2022-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN116387125A | 公开（公告）日： | 2023-07-04 |
| 发明（设计）人： | 金经晩;刘永俊;严永堤 | 申请（专利权）人： | 细美事有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/223;H01L21/265;H01L21/67;H01L21/68 |
| 代理公司： | 北京钲霖知识产权代理有限公司 11722 | 代理人： | 李英艳;玉昌峰 |
| 地址： | 韩国忠*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明作为基板处理装置及包括其的基板绑定系统及基板处理方法，公开如下技术：向基板表面供应离子和自由基而营造用于形成羟基(‑OH)的环境，通过离子阻断器过滤离子的同时仅供应自由基，从而在基板表面整体上均匀地形成羟基(‑OH)而能够确保均匀度。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 包括 绑定 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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