[发明专利]一种浮栅场效应晶体管器件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202211391427.X 申请日: 2022-11-07
公开(公告)号: CN115692524A 公开(公告)日: 2023-02-03
发明(设计)人: 郭楠;宋洪婷;刘军库 申请(专利权)人: 中国空间技术研究院
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/032;H01L31/113;H01L31/18
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 张丽筠
地址: 100194 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种二碲化钼薄片/铜铟硫代磷酸盐薄片/双金栅电极叠层结构浮栅场效应晶体管器件及其制备方法,具体是指将n型的二碲化钼(MoTe2)薄片、绝缘的铜铟硫代磷酸盐(CuInP2S6)薄片、双金(Au)栅电极依次接触形成垂直叠层结构。MoTe2薄片为晶体管沟道层,CuInP2S6薄片为晶体管介质层,双Au栅电极为晶体管浮栅层。利用MoTe2薄片与CuInP2S6薄片较为接近的电子亲和势,受光激发的MoTe2薄片其光生电子可有效穿过CuInP2S6薄片被注入到Au栅电极,形成局域的负栅压来调制MoTe2薄片的电导,实现光激发的浮栅场效应晶体管器件。
搜索关键词: 一种 场效应 晶体管 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
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