[发明专利]光刻机投影物镜远心偏差的预测方法、装置、系统和介质在审
| 申请号： | 202211384516.1 | 申请日： | 2022-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN115639731A | 公开（公告）日： | 2023-01-24 |
| 发明（设计）人： | 王嘉硕;韦亚一;董立松;范泰安;苏晓菁 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 卫三娟 |
| 地址： | 100029 北京市朝阳*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请提供一种光刻机投影物镜远心偏差的预测方法、装置、系统和介质，该方法包括：根据晶圆上初始图案中心偏移量和离焦变化量计算得到初始远心度，根据初始远心度、初始图案中心偏移量和引入单项干扰时的图案中心偏移量计算得到引入单项干扰时的远心度，作为第一等效远心度；根据初始远心度和引入多项干扰时的各个干扰分别对应的远心度，计算得到引入多项干扰时的远心度，作为第二等效远心度；根据第一等效远心度、第二等效远心度计算在不同离焦时的图案中心偏移作为第二远心偏差。从而本申请在掌握系统的初始图形放置误差和引入的系统扰动之后，不再需要额外的图形测量，即可以较高精度的预测光刻机投影物镜远心偏差，计算简单、检测成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 投影 物镜 偏差 预测 方法 装置 系统 介质 | ||
【主权项】：
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