[发明专利]光刻机投影物镜远心偏差的预测方法、装置、系统和介质

权利要求书

1.一种光刻机投影物镜远心偏差的预测方法，其特征在于，包括：

根据晶圆上初始图案中心偏移量和离焦变化量计算得到初始远心度；

当投影系统中存在单项干扰时，根据所述初始远心度、所述初始图案中心偏移量和引入所述单项干扰时的图案中心偏移量计算得到引入所述单项干扰时的远心度，作为第一等效远心度；

当投影系统中存在多项干扰时，根据所述初始远心度和引入所述多项干扰时的各个干扰分别对应的远心度，计算得到引入所述多项干扰时的远心度，作为第二等效远心度；

当投影系统中存在单项干扰时，根据所述第一等效远心度计算在不同离焦时的图案中心偏移作为第一远心偏差；

当投影系统中存在多项干扰时，根据所述第二等效远心度计算在不同离焦时的图案中心偏移作为第二远心偏差。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据晶圆上初始图案中心偏移量和离焦变化量计算得到初始远心度，包括：

其中，为所述初始远心度，为所述初始图案中心偏移量，ΔF为所述离焦变化量。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述初始远心度、所述初始图案中心偏移量和引入所述单项干扰时的图案中心偏移量计算得到引入所述单项干扰时的远心度，作为第一等效远心度，包括：

其中，为所述第一等效远心度，为所述初始图案中心偏移量，为所述引入所述单项干扰时的图案中心偏移量。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述初始远心度和引入所述多项干扰时的各个干扰分别对应的远心度，计算得到引入所述多项干扰时的远心度，作为第二等效远心度，包括；

其中，为所述第二等效远心度，为所述引入所述多项干扰时的各个干扰分别对应的远心度，其中，n为正整数。

5.一种光刻机投影物镜远心偏差的预测装置，其特征在于，包括：

初始远心度计算单元，用于根据晶圆上初始图案中心偏移量和离焦变化量计算得到初始远心度；

第一等效远心度计算单元，用于当投影系统中存在单项干扰时，根据所述初始远心度、所述初始图案中心偏移量和引入所述单项干扰时的图案中心偏移量计算得到引入所述单项干扰时的远心度，作为第一等效远心度；

第二等效远心度计算单元，用于当投影系统中存在多项干扰时，根据所述初始远心度和引入所述多项干扰时的各个干扰分别对应的远心度，计算得到引入所述多项干扰时的远心度，作为第二等效远心度；

第一远心偏差计算单元，用于当投影系统中存在单项干扰时，根据所述第一等效远心度计算在不同离焦时的图案中心偏移作为第一远心偏差；

第二远心偏差计算单元，用于当投影系统中存在多项干扰时，根据所述第二等效远心度计算在不同离焦时的图案中心偏移作为第二远心偏差。

6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述初始远心度计算单元，具体用于计算所述初始远心度

其中，为所述初始远心度，为所述初始图案中心偏移量，ΔF为所述离焦变化量。

7.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述第一等效远心度计算单元，具体用于计算所述第一等效远心度

其中，为所述第一等效远心度，为所述初始图案中心偏移量，为所述引入所述单项干扰时的图案中心偏移量。

8.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述第二等效远心度计算单元，具体用于计算所述第二等效远心度

其中，为所述第二等效远心度，为所述引入所述多项干扰时的各个干扰分别对应的远心度，其中，n为正整数。

9.一种光刻机投影物镜远心偏差的预测系统，其特征在于，包括：

存储器，用于存储计算机程序；

处理器，用于执行所述计算机程序时实现如权利要求1-4任意一项所述光刻机投影物镜远心偏差的预测方法的步骤。

10.一种计算机可读介质，其特征在于，所述计算机可读介质上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理执行时实现如权利要求1-4任意一项所述光刻机投影物镜远心偏差的预测方法的步骤。