[发明专利]一种背孔过刻蚀检验方法及装置在审
| 申请号： | 202211304707.2 | 申请日： | 2022-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN115597520A | 公开（公告）日： | 2023-01-13 |
| 发明（设计）人： | 刘晓辉 | 申请（专利权）人： | 成都海威华芯科技有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/22 | 分类号： | G01B11/22;G01N21/59;G01N21/95;G01N21/88;H01L21/66;H01L21/67 |
| 代理公司： | 成都华风专利事务所(普通合伙) 51223 | 代理人： | 张巨箭 |
| 地址： | 610299 四川省成都市中国（四川）自由*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种背孔过刻蚀检验方法及装置，包括：收集背孔完全刻蚀穿正面金属的不同型号的晶圆作为标准片，其中所述标准片中背孔作为标准背孔；使用光源照射所述标准片，并测得透射过标准背孔的光线，得到不同标准片的标准背孔透射光；使用与测量标准背孔相同的光源照射所述待测晶圆，根据待测晶圆中所有背孔的背孔透射光的情况判断所述待测晶圆的过刻蚀情况；所述根据待测晶圆中所有背孔的背孔透射光的情况判断所述待测晶圆是否存在过刻蚀。本发明利用光线透射晶圆背孔的方法来检验背孔是否过刻蚀，提高了检验效率和检验精度，并避免了run货风险。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 刻蚀 检验 方法 装置 | ||
【主权项】：
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