[发明专利]一种基于双层优化的大规模集成电路布局优化方法有效
| 申请号： | 202211282004.4 | 申请日： | 2022-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN115600537B | 公开（公告）日： | 2023-04-28 |
| 发明（设计）人： | 赵宏;唐凌;刘静 | 申请（专利权）人： | 西安电子科技大学广州研究院 |
| 主分类号： | G06F30/373 | 分类号： | G06F30/373 |
| 代理公司： | 广州大象飞扬知识产权代理有限公司 44745 | 代理人： | 蒋静 |
| 地址： | 510555 广东省广州市黄*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及芯片布局优化技术领域，具体的说是一种基于双层优化的大规模集成电路布局优化方法，包括参数设置，cell社团划分，初始化上层优化设置，下层变异操作，评估适应值，返回上层cell社团排列顺序下的最佳适应值，上层变异操作，对目前排行第一的解进行cell位置优化；本发明通过结合前期社团划分、中期在线优化、后期精细局部搜索来有效地解决当前芯片设计中cell的布局问题，前期社团划分结合了复杂网络模体概念，减少了社团检测算法的复杂度，中期在线优化过程采用了一种双层优化的方法，后期精细布局搜索只对最后解集中的最优解进行，在保证算法的效率的同时，降低了算法的复杂度，减少了算法运行时间，节约企业成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 双层 优化 大规模集成电路 布局 方法 | ||
【主权项】：
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