[发明专利]一种嵌入式沟道的可重构场效应晶体管在审

专利信息
申请号: 202211278461.6 申请日: 2022-10-19
公开(公告)号: CN115881822A 公开(公告)日: 2023-03-31
发明(设计)人: 孙亚宾;汪超;石艳玲;李小进 申请(专利权)人: 华东师范大学
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L21/336;H01L29/10;B82Y40/00
代理公司: 上海蓝迪专利商标事务所(普通合伙) 31215 代理人: 徐筱梅;张翔
地址: 200241 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种嵌入式沟道的可重构场效应晶体管,包括水平排列的鳍式沟道、水平或垂直排列的纳米片沟道或水平或垂直排列的纳米线沟道,包裹沟道的栅极氧化物,在栅极氧化物外侧的关于器件中线对称的控制栅极和极性栅极,在控制栅极与极性栅极的之间、包裹栅极氧化物的栅极隔离层,在控制栅极左侧、包裹沟道的源边墙,在极性栅极右侧、包裹沟道的漏边墙,在边墙两侧的、每条沟道两端伸入其中约1/14沟道长度的源、漏,以及在器件底部的衬底。本发明与普通非嵌入式沟道的可重构场效应晶体管相比,向源内部延伸的沟道增加了源与沟道的接触面积,开态电流提升。在关断时,关态电流基本保持不变,故有更为理想的电流开关比和逻辑响应速度。
搜索关键词: 一种 嵌入式 沟道 可重构 场效应 晶体管
【主权项】:
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