[发明专利]保护膜形成膜、保护膜形成用片、保护膜形成用复合片及装置的制造方法在审

专利信息
申请号: 202211262176.5 申请日: 2022-10-14
公开(公告)号: CN116239923A 公开(公告)日: 2023-06-09
发明(设计)人: 田中佑耶;山下茂之 申请(专利权)人: 琳得科株式会社
主分类号: C09D133/08 分类号: C09D133/08;C09D163/00;C09D7/61;C09D7/62;H01L21/683;H01L21/78
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 张晶;谢顺星
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种带保护膜的工件的分割性良好且能够抑制分割后的保护膜的外观不良的保护膜形成膜、具备该保护膜形成膜的保护膜形成用片及保护膜形成用复合片、以及半导体装置等装置的制造方法。所述保护膜形成膜为固化后成为保护膜的保护膜形成膜,其中,在23℃下,对固化后的保护膜形成膜实施直角撕裂试验时,直角撕裂强度为10N/mm以上,且在该直角撕裂试验中,固化后的保护膜形成膜断裂时的伸长率为10%以下。
搜索关键词: 保护膜 形成 复合 装置 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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