[发明专利]保护膜形成膜、保护膜形成用片、保护膜形成用复合片及装置的制造方法在审

专利信息
申请号: 202211262176.5 申请日: 2022-10-14
公开(公告)号: CN116239923A 公开(公告)日: 2023-06-09
发明(设计)人: 田中佑耶;山下茂之 申请(专利权)人: 琳得科株式会社
主分类号: C09D133/08 分类号: C09D133/08;C09D163/00;C09D7/61;C09D7/62;H01L21/683;H01L21/78
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 张晶;谢顺星
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 保护膜 形成 复合 装置 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种保护膜形成膜,其为在固化后成为保护膜的保护膜形成膜,其中,在23℃下,对固化后的保护膜形成膜实施直角撕裂试验时,直角撕裂强度为10N/mm以上,且在该直角撕裂试验中,固化后的保护膜形成膜断裂时的伸长率为10%以下。

2.根据权利要求1所述的保护膜形成膜,其中,所述保护膜为热固化物或能量射线固化物。

3.根据权利要求1或2所述的保护膜形成膜,其中,所述直角撕裂强度为25N/mm以下。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的保护膜形成膜,其用于通过使激光聚集于所述保护膜从而形成改质区域。

5.一种保护膜形成用片,其具有权利要求1~4中任一项所述的保护膜形成膜与以能够剥离的方式配置于所述保护膜形成膜的至少一个主面的剥离膜。

6.一种保护膜形成用复合片,其具有权利要求1~4中任一项所述的保护膜形成膜与支撑所述保护膜形成膜的支撑片。

7.根据权利要求6所述的保护膜形成用复合片,其中,在将23℃下的固化后的保护膜形成膜的直角撕裂强度设为TS1,并将在23℃下对所述支撑片实施直角撕裂试验时的所述支撑片的直角撕裂强度设为TS2时,TS1/TS2为0.15以下。

8.一种装置的制造方法,其具有:

将保护膜形成膜贴附于工件的背面的工序;

将所贴附的保护膜形成膜固化,从而在工件的背面形成保护膜,得到带保护膜的工件的工序;

使激光聚集于所述工件内部的事先设定的区域,从而形成第一改质区域的工序;

使激光聚集于所述保护膜内部的事先设定的区域,从而形成第二改质区域的工序;及

使拉伸力作用于形成有所述第一改质区域及所述第二改质区域的带保护膜的工件,从而将该带保护膜的工件单颗化,得到多个带保护膜的工件加工物的工序。

9.根据权利要求8所述的装置的制造方法,其中,所述保护膜形成膜为权利要求5所述的保护膜形成用片所具备的保护膜形成膜、或者权利要求6或7所述的保护膜形成用复合片所具备的保护膜形成膜。

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