[发明专利]一种化学机械抛光的在线监测装置

摘要

本发明公开了一种化学机械抛光的在线监测装置，设于抛光盘内，可随抛光盘转动；其包括光源；光学镜组，用于接收光源发出的光束，产生准直光束；光路转折单元，用于接收准直光束，将其形成入射光路，入射光路透过抛光盘的通光窗口，照射至抛光盘上的晶圆表面，晶圆表面将入射光路反射后经过光路转折单元形成出射光路；探测器，用于接收出射光路，以获取对应的光谱信息，确定晶圆抛光的终点。本发明采用光学镜组缩束准直的方式耦合光源，解决了传统光纤耦合导致的光源光强利用率低的问题；采用信号控制方式调节光源并实时监测光强，保证测量信号的稳定性，提升探测精度，延长光源的使用寿命。