[发明专利]双钨极氩弧增材制造的熔敷层表面平整度优化方法有效

专利信息
申请号: 202211180070.0 申请日: 2022-09-27
公开(公告)号: CN115488468B 公开(公告)日: 2023-07-07
发明(设计)人: 韩庆璘;王涛;黎文航 申请(专利权)人: 江苏科技大学
主分类号: B23K9/04 分类号: B23K9/04;B23K9/167;B33Y10/00
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司 32243 代理人: 胡定华
地址: 212008*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及电弧增材制造技术领域,尤其涉及一种双钨极氩弧增材制造的熔敷层表面平整度优化方法,通过增大流经搭接侧钨极的电流,保持流经另一侧钨极的电流不变,从而增大双钨极耦合电弧在搭接侧的加热范围,导致重熔区域向前一道顶点方向扩展,使位于熔敷路径中心线的搭接侧的熔池宽度达到搭接间距d,进而促进熔池熔融金属更多地向熔敷道搭接区域铺展填充,因此,该方法在保证熔敷层内各个熔敷道高度一致的前提下,大幅缩小了熔敷层表面的沟壑深度,实现了熔敷层表面平整度的优化。
搜索关键词: 双钨极氩弧增材 制造 熔敷层 表面 平整 优化 方法
【主权项】:
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