[发明专利]双钨极氩弧增材制造的熔敷层表面平整度优化方法有效
申请号: | 202211180070.0 | 申请日: | 2022-09-27 |
公开(公告)号: | CN115488468B | 公开(公告)日: | 2023-07-07 |
发明(设计)人: | 韩庆璘;王涛;黎文航 | 申请(专利权)人: | 江苏科技大学 |
主分类号: | B23K9/04 | 分类号: | B23K9/04;B23K9/167;B33Y10/00 |
代理公司: | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人: | 胡定华 |
地址: | 212008*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 双钨极氩弧增材 制造 熔敷层 表面 平整 优化 方法 | ||
1.一种双钨极氩弧增材制造的熔敷层表面平整度优化方法,采用的装置包括双钨极氩弧增材制造焊枪(3)、第一偏钨极(6)和第二偏钨极(7),其特征在于,所述第一偏钨极(6)和所述第二偏钨极(7)分别位于熔敷路径前进方向的两侧,其尖端靠近并呈镜像对称设置,且增材制造过程中,所述第一偏钨极(6)和所述第二偏钨极(7)始终垂直于基板(1);
所述优化方法包括:
以熔敷层中央的第一熔敷道(9)为基准,从第一熔敷道(9)向两边进行堆积,在搭接过程中增加流经搭接侧钨极的电流,保持流经非搭接侧钨极的电流不变。
2.根据权利要求1所述的双钨极氩弧增材制造的熔敷层表面平整度优化方法,其特征在于,所述优化方法还包括:在0.667w~0.738w范围内选择适当的搭接间距d,在确保位于熔敷路径中心线的搭接侧的熔池宽度达到d的同时,使位于熔敷路径中心线的非搭接侧的熔池宽度保持为0.5w,其中w为第一熔敷道(9)的宽度。
3.根据权利要求2所述的双钨极氩弧增材制造的熔敷层表面平整度优化方法,其特征在于,所述优化方法进一步包括:
S1、待熔敷道表面冷却到道间温度,将双钨极氩弧增材制造焊枪(3)向右移动,移动距离为搭接间距d,保持流经第二偏钨极(7)的电流I2不变,增大流经第一偏钨极(6)的电流I1,使重熔区域(11)向左侧扩展,位于熔敷路径中心线的搭接侧的熔池宽度应达到搭接间距d,开始搭接熔敷道(12)的堆积过程;
S2、反复执行步骤S1,直到完成第一熔敷道(9)右侧部分的熔敷加工;
S3、镜像操作,待熔敷道表面冷却到道间温度,将双钨极氩弧增材制造焊枪(3)移动到第一熔敷道(9)起始点左方距离为d处,保持I1不变,增大I2,使重熔区域(11)向右侧扩展,位于熔敷路径中心线的搭接侧的熔池宽度应达到搭接间距d,开始搭接熔敷道(12)的堆积过程;
S4、待熔敷道表面冷却到道间温度,将双钨极氩弧增材制造焊枪(3)向左移动,移动距离为搭接间距d,继续堆积左侧的搭接熔敷道(12);
S5,反复执行步骤S4,直到完成第一熔敷道(9)左侧部分的熔敷加工。
4.根据权利要求3所述的双钨极氩弧增材制造的熔敷层表面平整度优化方法,其特征在于,步骤S1之前还包括以下步骤:
S01、对待加工零件(2)的三维几何模型分层切片得到各个熔敷层,根据各个熔敷层的尺寸进行路径规划,将熔敷层规划划分为第一熔敷道(9)与多条搭接熔敷道(12);采用平行路径填充模式,熔敷层宽度W、熔敷道宽度w、搭接间距d、熔敷道数量n满足以下关系式:W=w+d,其中搭接间距d取值为0.667w~0.738w;
S02、将熔敷层中央的熔敷道设置为第一熔敷道(9),根据其几何尺寸,规划并设置熔敷规范参数,包括流经第一偏钨极(6)的电流I1,流经第二偏钨极(7)的电流I2,行走速度v和送丝速度vf,使I1=I2;
S03、熔敷道的堆积过程:将双钨极氩弧增材制造焊枪(3)移动到熔敷道起始点并提前通入保护气2~5秒,在第一偏钨极(6)、第二偏钨极(7)与基板(1)之间引燃双钨极耦合电弧(8),待熔池形成后,按照规划路径行走并送丝;当双钨极氩弧增材制造焊枪(3)运动到熔敷道终点时,先停止送丝,再衰减电流并熄弧,衰减电流时间为0.2~1秒,5~10秒后停止通保护气。
5.根据权利要求4所述的双钨极氩弧增材制造的熔敷层表面平整度优化方法,其特征在于,步骤S5之后还包括以下步骤:
S6,将双钨极氩弧增材制造焊枪(3)移动到第一熔敷道(9)起始位置并抬高,抬高距离为前一熔敷层的高度,执行步骤S02到步骤S5;
反复执行步骤S6,直到完成所有熔敷层的堆积。
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