[发明专利]陷光结构制备方法在审
| 申请号： | 202211154719.1 | 申请日： | 2022-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN115475803A | 公开（公告）日： | 2022-12-16 |
| 发明（设计）人： | 张紫辰;侯煜;文志东;王然;岳嵩;张昆鹏;张喆;李曼;石海燕;薛美;李朋 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00 |
| 代理公司： | 北京兰亭信通知识产权代理有限公司 11667 | 代理人： | 苑晨超 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种陷光结构制备方法，包括：当前加工行不是第一条加工行时，对当前加工行采用方形平顶光斑进行激光清洗处理；激光清洗处理完成后，采用圆形高斯光斑进行激光诱导加工；当前加工行为最后一个加工行时，在完成激光诱导加工后，采用方形平顶光斑对所有加工行进行激光清洗处理；其中，所述方形平顶光斑能量密度为所述圆形高斯光斑能量密度的1/20～2/15。本发明提供的陷光结构制备方法，能够通过激光清洗处理过程去除当前加工行的杂质堆积，降低对待处理材料的保护需求，减少危险化工物品的使用。 | ||
| 搜索关键词： | 结构 制备 方法 | ||
【主权项】：
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