[发明专利]一种插层MXene分离膜、制备方法以及在H2 在审
| 申请号： | 202211136854.3 | 申请日： | 2022-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN115738612A | 公开（公告）日： | 2023-03-07 |
| 发明（设计）人： | 刘国振;刘公平;金万勤 | 申请（专利权）人： | 南京工业大学 |
| 主分类号： | B01D53/22 | 分类号： | B01D53/22;B01D67/00;B01D69/12;B82Y40/00;C01B3/56;C01B32/50 |
| 代理公司： | 南京新慧恒诚知识产权代理有限公司 32424 | 代理人： | 邓唯 |
| 地址： | 211816 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种室温下通过原位合成的MOF‑801@MXene纳米片作为构筑单元从而构建出具有显著增强的渗透性和选择性的MOF@MXene膜。本方法通过带负电的MXene纳米片可以通过静电相互作用从周围锚定Zr金属离子，然后在室温下与配体配位，从而在MXene纳米片上均匀生长出MOF‑801晶体。然后在多孔有机基材表面上将所合成的MOF‑801@MXene纳米片进行真空抽滤制膜。由于MOF‑801晶体可以为H |
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| 搜索关键词： | 一种 mxene 分离 制备 方法 以及 base sub | ||
【主权项】：
暂无信息
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