[发明专利]一种插层MXene分离膜、制备方法以及在H2 在审
| 申请号： | 202211136854.3 | 申请日： | 2022-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN115738612A | 公开（公告）日： | 2023-03-07 |
| 发明（设计）人： | 刘国振;刘公平;金万勤 | 申请（专利权）人： | 南京工业大学 |
| 主分类号： | B01D53/22 | 分类号： | B01D53/22;B01D67/00;B01D69/12;B82Y40/00;C01B3/56;C01B32/50 |
| 代理公司： | 南京新慧恒诚知识产权代理有限公司 32424 | 代理人： | 邓唯 |
| 地址： | 211816 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 mxene 分离 制备 方法 以及 base sub | ||
1.一种插层MXene分离膜，包括有MXene二维纳米片，其特征在于，还包括分布于纳米片之间的片层中的MOF-801晶体，且MOF-801晶体附着于至少一层MXene二维纳米片的表面。
2.根据权利要求1所述的插层MXene分离膜，其特征在于，所述的MOF-801晶体是通过原位合成的方式附着于MXene二维纳米片的表面；层间通道间距0.35-0.40nm。
3.根据权利要求1所述的插层MXene分离膜，其特征在于，MOF-801晶体占MXene二维纳米片重量的5-15％。
4.根据权利要求1所述的插层MXene分离膜，其特征在于，所述的MXene二维纳米片是Ti3C2Tx。
5.权利要求1所述的插层MXene分离膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1，配制含有富马酸、ZrOCl2和MXene纳米片的混合溶液，搅拌反应，使在MXene纳米片的表面生成MOF-801晶体，获得制膜液；
步骤2，制膜液通过抽吸的方式在基底上使负载有MOF-801晶体的MXene纳米片负载后，干燥处理，得到插层MXene分离膜。
6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述的步骤1中，富马酸在溶液中的浓度0.01-0.15mmol/L，富马酸和ZrOCl2的摩尔比1：0.8-1.2。
7.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述的搅拌反应时间0.5-5h。
8.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述的基底是多孔聚合物材料。
9.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述的干燥处理是10-40℃处理5-30h。
10.权利要求1所述的插层MXene分离膜在在H2/CO2分离中的应用。
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