[发明专利]气浴装置在审
| 申请号： | 202211124975.6 | 申请日： | 2022-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN115682922A | 公开（公告）日： | 2023-02-03 |
| 发明（设计）人： | 焦健;付大为;李怀斌 | 申请（专利权）人： | 北京华卓精科科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B9/02001 | 分类号： | G01B9/02001;G01B9/02055;G01B11/02;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人： | 吴大建;张隽 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区经济技术开发区科创十*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明属于光刻机技术领域，尤其涉及一种气浴装置。本发明的气浴装置，包括：气液热交换单元和整流喷射单元，气液热交换单元的底面与散热部件的表面贴合，气液热交换单元与整流喷射单元相连，以将经过热交换的气体输入整流喷射单元，整流喷射单元能够喷射两层流速不同的气墙，以包络光学部件的光路区域。本发明的气浴装置，通过气液热交换单元与整流喷射单元的配合，可在光学部件的光路区域周围形成具有超高的温度稳定性及均匀性的双层“气墙”，保证测量系统的测量精度。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 | ||
【主权项】：
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