[发明专利]高耐压低导通电阻的鳍式氧化镓PN二极管及制备方法在审

专利信息
申请号: 202211032511.2 申请日: 2022-08-26
公开(公告)号: CN115312604A 公开(公告)日: 2022-11-08
发明(设计)人: 郑雪峰;何云龙;张超;洪悦华;张豪;马佩军;马晓华;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L29/06;H01L29/24;H01L21/329
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 王品华
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种高耐压低导通电阻的鳍式氧化镓PN二极管及制备方法,主要解决现有同类器件击穿电压低、导通电阻大的问题。其自下而上包括:阴极(1)、氧化镓衬底(2)、n型氧化镓外延层(3)、半导体层(4)、阳极(5),该氧化镓外延层上刻蚀多个沟槽形成鳍型结构(6),该半导体层采用p型半导体材料,且完全沉积在鳍型结构的外部,使其与氧化镓外延层形成PN结二极管;该氧化镓衬底的001晶向与鳍型结构的朝向之间设有20°~60°的夹角,通过改变夹角,提高器件的击穿电压;该氧化镓外延层的掺杂载流子浓度为1015~1017cm‑3,掺杂离子为Si。本发明具有击穿电压高、导通电阻小的优点,可用于高耐压大功率电力电子系统。
搜索关键词: 耐压 通电 氧化 pn 二极管 制备 方法
【主权项】:
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