[发明专利]一种等离子体射流快速制备亲疏水微流道的装置与方法在审
申请号: | 202210991957.1 | 申请日: | 2022-08-17 |
公开(公告)号: | CN115449780A | 公开(公告)日: | 2022-12-09 |
发明(设计)人: | 王涛;汪加豪;王信;饶思贤;项腾飞;时礼平 | 申请(专利权)人: | 安徽工业大学;安徽工业大学芜湖技术创新研究院 |
主分类号: | C23C16/513 | 分类号: | C23C16/513;C23C16/455;C23C8/36;H05H1/00 |
代理公司: | 合肥市科深知识产权代理事务所(普通合伙) 34235 | 代理人: | 李丹丹 |
地址: | 243000 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种等离子体射流快速制备亲疏水微流道的装置与方法,涉及微流控系统技术领域,疏水气源A和亲水气源B均与发生器单元体连接;功率电源A与左金属丝电极、右金属丝电极相连接;功率电源B与中间金属丝电极相连接。移动发生器单元体使得产生的左等离子体射流、中间等离子体射流和右等离子体射流作用于基板上;左等离子体射流、右等离子体射流将在基板上沉积一层左疏水膜、右疏水膜,中间等离子体射流将在基板上沉积一层亲水膜。基板上沉积的左疏水膜、亲水膜与右疏水膜将围成一条亲疏水微流道;通过将发生器单元体移动不同轨迹,将制备出具有不同图案的亲疏水微流道。可通过并列多个发生器单元体实现多条亲疏水通道的快速制备。 | ||
搜索关键词: | 一种 等离子体 射流 快速 制备 亲疏 水微流道 装置 方法 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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