[发明专利]一种等离子体射流快速制备亲疏水微流道的装置与方法

权利要求书

1.一种等离子体射流快速制备亲疏水微流道的装置，其特征在于，包括多个并列设置的发生器单元体(1)及位于发生器单元体(1)下方的基板(14)；

所述发生器单元体(1)包括：依次并排连接的左等离子体发生器(101)、中间等离子体发生器(104)和右等离子体发生器(107)；

疏水气源B，其分别与左等离子体发生器(101)、右等离子体发生器(107)相连通；

亲水气源B(8)，其与中间等离子体发生器(104)相连通；

功率电源A(4)，其分别与左等离子体发生器(101)、右等离子体发生器(107)相连接；

功率电源B(5)，其与中间等离子体发生器(104)相连接。

2.根据权利要求1所述的一种等离子体射流快速制备亲疏水微流道的装置，其特征在于，所述左等离子体发生器(101)、中间等离子体发生器(104)和右等离子体发生器(107)之间通过胶接或焊接并列相连。

3.根据权利要求1所述的一种等离子体射流快速制备亲疏水微流道的装置，其特征在于，还包括左金属丝电极(3)、中间金属丝电极(6)、右金属丝电极(7)，所述左金属丝电极(3)、中间金属丝电极(6)、右金属丝电极(7)分别插接在左等离子体发生器(101)、中间等离子体发生器(104)和右等离子体发生器(107)内。

4.根据权利要求3所述的一种等离子体射流快速制备亲疏水微流道的装置，其特征在于，所述左等离子体发生器(101)、中间等离子体发生器(104)和右等离子体发生器(107)的一端分别开设有左电极孔(103)、中间电极孔(106)、右电极孔(109)。

5.根据权利要求4所述的一种等离子体射流快速制备亲疏水微流道的装置，其特征在于，所述左等离子体发生器(101)、中间等离子体发生器(104)和右等离子体发生器(107)上分别还设置有左空腔(1012)、中心空腔(1011)、右空腔(1010)。

6.根据权利要求4所述的一种等离子体射流快速制备亲疏水微流道的装置，其特征在于，所述功率电源A(4)同时与左金属丝电极(3)、右金属丝电极(7)相连接；所述功率电源B(5)与中间金属丝电极(6)相连接。

7.根据权利要求1所述的一种等离子体射流快速制备亲疏水微流道的装置，其特征在于，所述左等离子体发生器(101)、中间等离子体发生器(104)和右等离子体发生器(107)上分别设置有左进气口(102)、中间进气口(105)、右进气口(108)。

8.根据权利要求1所述的一种等离子体射流快速制备亲疏水微流道的装置，其特征在于，所述疏水气源A(2)为四氟化碳气体、六甲基二硅氧烷与氩气中的一种或多种混合的气体。

9.根据权利要求1所述的一种等离子体射流快速制备亲疏水微流道的装置，其特征在于，所述亲水气源B(8)为氧气。

10.一种等离子体射流快速制备亲疏水微流道的方法，其特征在于，所述的方法基于权利要求1-9任意一项所述的装置实现，所述的方法包括以下步骤：

步骤S1：开启功率电源A(4)、功率电源B(5)，并通入疏水气源A(2)与亲水气源B(8)后，左等离子体发生器(101)、中间等离子体发生器(104)和右等离子体发生器(107)将分别生成左等离子体射流(15)、中间等离子体射流(9)和右等离子体射流(10)；

步骤S2：移动发生器单元体(1)使得产生的左等离子体射流(15)、中间等离子体射流(9)和右等离子体射流(10)作用于基板(14)上；左等离子体射流(15)将在基板(14)上沉积一层左疏水膜(13)，右等离子体射流(10)将在基板(14)上沉积一层右疏水膜(11)，中间等离子体射流(9)将在基板(14)上沉积一层亲水膜(12)；

步骤S3：基板(14)上沉积的左疏水膜(13)、亲水膜(12)与右疏水膜(11)将围成一条亲疏水微流道；

步骤S4：将发生器单元体(1)移动不同轨迹，将制备出具有不同图案的亲疏水微流道。