[发明专利]一种微纳气泡光催化增强化学机械抛光方法在审
| 申请号： | 202210957724.X | 申请日： | 2022-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN115139215A | 公开（公告）日： | 2022-10-04 |
| 发明（设计）人： | 佘丁顺;王尉;岳文;康嘉杰;王青青;赵洪晨;孟德忠 | 申请（专利权）人： | 中国地质大学（北京）郑州研究院;珀丽诗（河南）文化科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00;B24B57/02;C09G1/02 |
| 代理公司： | 深圳市优赛朝闻专利代理事务所(普通合伙) 44454 | 代理人： | 谭育华 |
| 地址： | 450000 河南省*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明涉及抛光领域，特别涉及一种微纳气泡光催化增强化学机械抛光方法，所述一种微纳气泡光催化增强化学机械抛光方法含两种辅助增强方式：微纳气泡辅助增强和光催化辅助增强。包括以下步骤：(1)选择合适的光催化剂、电子捕获剂、磨料、酸碱调节剂和分散剂配置抛光液，(2)在抛光液中，引入微纳气泡，制备微纳气泡光催化抛光液，(3)在紫外灯的照射下，利用化学和机械协同作用对待抛光材料进行抛光和表面平坦化。和化学机械抛光相比，该方法采用微纳气泡和光催化双重增强方式，可以提高磨料的分散性，增强抛光液的氧化性，提高晶片表面材料的去除率、表面质量和抛光效率，实现材料高效、超精密、低损伤的抛光。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 气泡 光催化 增强 化学 机械抛光 方法 | ||
【主权项】：
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