[发明专利]一种微纳气泡光催化增强化学机械抛光方法

权利要求书

1.一种微纳气泡光催化增强化学机械抛光方法包括以下步骤：(1)选择合适的光催化剂、电子捕获剂、磨料、酸碱调节剂和分散剂配置抛光液，(2)在抛光液中，引入微纳气泡，制备微纳气泡光催化抛光液，(3)在紫外灯的照射下，化学和机械协同作用对待抛光晶片进行抛光和表面平坦化。

2.根据权利要求1所述的一种微纳气泡光催化增强化学机械抛光方法，其特征在于：所述光催化剂可以但不仅限于P25型二氧化钛、5nm TiO₂、ZnO、ZrO₂、CeO₂，其质量浓度为：0.5g/L-2.5g/L。

3.根据权利要求1所述的一种微纳气泡光催化增强化学机械抛光方法，其特征在于：所述电子捕获剂可以但不仅限于过氧化氢、高铁酸钾、高锰酸钾，其摩尔浓度：0mol/L-2.0mol/L。

4.根据权利要求1所述的一种微纳气泡光催化增强化学机械抛光方法，其特征在于：所述磨料可以但不仅限于纳米二氧化硅、纳米二氧化铈、纳米氧化铝、纳米氧化锆、纳米金刚石，质量百分比为0-40％。

5.根据权利要求1所述的一种微纳气泡光催化增强化学机械抛光方法，其特征在于：所述酸碱调节剂可以但不仅限于氢氧化钠和磷酸。

6.根据权利要求1所述的一种微纳气泡光催化增强化学机械抛光方法，其特征在于：所述分散剂可以但不仅限于六偏磷酸钠、硅溶胶。

7.根据权利要求1所述的一种微纳气泡光催化增强化学机械抛光方法，其特征在于：所述微纳气泡类型可以但不仅限于空气、氧气、臭氧，气泡粒径为10-100nm，其进气流量范围为：0～0.1m³/h。

8.根据权利要求1所述的一种微纳气泡光催化增强化学机械抛光方法，其特征在于：所述紫外灯波长可以但不仅限于365nm、375nm、385nm、395nm、405nm。

9.根据权利要求1所述的一种微纳气泡光催化增强化学机械抛光方法，其特征在于：所述微纳气泡光催化抛光液是在配置好的光催化抛光液中通入微纳气泡后获得的。

10.根据权利要求1所述的一种微纳气泡光催化增强化学机械抛光方法，其特征在于：所述抛光方法中工艺参数范围可以但不仅限于抛光压力0.005MPa-0.05MPa，转速20r/min-200r/min，载样盘转速20r/min-100r/min，抛光垫类型为聚氨酯抛光垫、阻尼布抛光垫、合成纤维聚合物抛光垫。