[发明专利]一种LED外延新型应力释放层生长方法及该方法制备的芯片在审

专利信息
申请号: 202210953377.3 申请日: 2022-08-10
公开(公告)号: CN115347087A 公开(公告)日: 2022-11-15
发明(设计)人: 吕腾飞;王淑娇;郭园;祝光辉;展望;芦玲 申请(专利权)人: 淮安澳洋顺昌光电技术有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/06;H01L33/12;H01L33/24
代理公司: 淮安市科文知识产权事务所 32223 代理人: 邹文玉
地址: 223001 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种LED外延新型应力释放层生长方法,具体的方法包括提供一衬底,以及在衬底表面依次生长缓冲层、u型GaN层、重掺Si的n型GaN层、应力释放层、发光层和p型GaN层;所述的应力释放层的生长方法为:依次/循环生长第一超晶格层和第二超晶格层;所述的第一超晶格层包括周期性交替生长的GaN层和InXGa(1‑X)N层,0≤X<0.8;所述的第二超晶格层包括周期性交替生长的GaN层和InYGa(1‑Y)N层,0≤Y<1。本发明通过第一超晶格层的设置,起到改善堆垛层错的效果,防止直接生长第二超晶格层形成晶格失配大,导致堆垛层错产生电性异常的现象,能够有效改善结晶质量,增加内量子效率从而提升LED发光效率。
搜索关键词: 一种 led 外延 新型 应力 释放 生长 方法 制备 芯片
【主权项】:
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