[发明专利]一种镍铝合金溅射靶材及其热等静压制备方法有效
| 申请号： | 202210915905.6 | 申请日： | 2022-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN115261806B | 公开（公告）日： | 2023-09-08 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;潘杰;王学泽;黄东长 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;B22F3/10;B22F3/15;B22F5/00;C22C19/03 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 徐浩 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提出一种镍铝合金溅射靶材及其热等静压制备方法，所述热等静压制备方法依靠热等静压工艺，不仅可以减少外界对靶材的氧化作用，保证镍铝合金溅射靶材的纯度，还具有工艺简单、成本较低、提高加工生产效率、便于大规模推广等优点，而且制备得到的镍铝合金溅射靶材具有致密度在99％以上、内部组织均匀、成分均匀、机加工性能优异等优点，可以用于第三代半导体用真空磁控溅射镀膜或真空多弧离子镀膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 铝合金 溅射 及其 静压 制备 方法 | ||
【主权项】：
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