[发明专利]一种对准误差的量测方法及系统有效
| 申请号： | 202210565869.5 | 申请日： | 2022-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN114660907B | 公开（公告）日： | 2022-08-26 |
| 发明（设计）人： | 杨学人 | 申请（专利权）人： | 合肥晶合集成电路股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 王积毅 |
| 地址： | 230012 安徽省合肥*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种对准误差的量测方法及系统，所述对准误差的量测方法包括：选取多个待测晶圆，且所述待测晶圆上设置有多个对准标记；依据至所述待测晶圆中心的距离，将每个所述晶圆划分为多个待测区域；在每个所述待测区域内选取至少一个待测曝光区域；在每个所述待测曝光区域内选取多个量测点，且每个所述量测点在所述待测晶圆上对应设置有所述对准标记；以及获取每个所述量测点与所述对准标记的误差为所述对准误差。通过本发明提供的对准误差的量测方法及系统，可提高半导体器件的性能和产能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 对准 误差 方法 系统 | ||
【主权项】：
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