[发明专利]PH响应表面结构及其制备方法、电子设备有效
| 申请号： | 202210555940.1 | 申请日： | 2022-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN114989474B | 公开（公告）日： | 2023-03-21 |
| 发明（设计）人： | 王萌;高儒明;刘胜凯;龙嘉钊 | 申请（专利权）人： | 深圳技术大学 |
| 主分类号： | C08J7/12 | 分类号： | C08J7/12;C08L63/00;C08L67/00;B81C1/00;B81B1/00;C23C14/20;C23C14/24 |
| 代理公司： | 深圳市嘉勤知识产权代理有限公司 44651 | 代理人： | 帅进军 |
| 地址： | 518000 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请公开一种PH响应表面结构及其制备方法、电子设备，可简化表面加工工艺步骤、降低成本，提高图案可控性。该制备方法包括提供形状记忆聚合物结构层，形状记忆聚合物结构层包括第一表面；对第一表面进行飞秒激光处理以形成微柱阵列，微柱阵列包含多个均匀排布且存在间隔的微柱；在第一表面形成金属层；将第一表面的金属层与PH刺激响应聚合物进行枝接，得到PH响应表面结构。 | ||
| 搜索关键词： | ph 响应 表面 结构 及其 制备 方法 电子设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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