[发明专利]基于E面多孔扩展耦合结构的多路波导功率合成器在审

专利信息
申请号: 202210285445.3 申请日: 2022-03-22
公开(公告)号: CN114784476A 公开(公告)日: 2022-07-22
发明(设计)人: 刘云;谢林汐 申请(专利权)人: 南京航空航天大学
主分类号: H01P5/16 分类号: H01P5/16
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 熊玉玮
地址: 210016 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开基于E面多孔扩展耦合结构的多路波导功率合成器,属于微波元件的技术领域。该波导功率合成器由多路并行的波导以及波导间的耦合结构组成。多路并行的波导平行排列,其中,主路波导居中,主路波导一侧端口为输入端口,每一路耦合波导与输入端口同侧的端口接匹配负载,其余矩形波导沿主路波导两侧对称排布,所有波导的另一侧端口形成功率分配或功率合成端口。该波导功率合成器结构简单,易于加工,具有良好的通带特性、反射特性以及传输特性,适用于功率合成放大结构的使用。对该波导功率器件进行二级级联形成二维波导功率合成网络,大幅提高合路效率。
搜索关键词: 基于 多孔 扩展 耦合 结构 波导 功率 合成器
【主权项】:
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