[发明专利]同时在多个微型压板之上的基板抛光在审
| 申请号： | 202210260091.7 | 申请日： | 2022-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN115106924A | 公开（公告）日： | 2022-09-27 |
| 发明（设计）人： | 吴政勋;S·M·苏尼加 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | B24B37/10 | 分类号： | B24B37/10;B24B37/30;B24B37/34;B24B27/00;B24B7/22;B24B47/12;B24B57/02;B24B1/04;H01L21/321 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 杨学春;侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种基板抛光装置，包括处理站，所述处理站包括：多个抛光压板，所述多个抛光压板上具有抛光垫；以及基板支撑件，所述基板支撑件被配置为在其中保持基板，其中所述基板支撑件可定位成同时地将支撑在其中的基板抵靠所述多个抛光压板中的至少两个抛光压板上的抛光垫定位。所述处理站可形成独立抛光系统，或者可以是抛光工具中的至少两个处理站中的一者，其中至少一个其他抛光站包括抛光压板以在其上支撑抛光垫。 | ||
| 搜索关键词： | 同时 微型 压板 之上 抛光 | ||
【主权项】：
暂无信息
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