[发明专利]同时在多个微型压板之上的基板抛光

权利要求书

1.一种基板抛光装置，包括：

处理站，所述处理站包括：

多个抛光压板，所述多个抛光压板上具有抛光垫；以及

基板支撑件，所述基板支撑件被配置为在其中保持基板，其中所述基板支撑件能定位成同时地将支撑在其中的基板抵靠所述多个抛光压板中的至少两个抛光压板上的抛光垫定位。

2.如权利要求1所述的基板抛光装置，其中所述基板支撑件能定位成同时地将支撑在其中的基板抵靠三个抛光压板上的所述抛光垫定位。

3.如权利要求2所述的基板抛光装置，其中所述基板支撑件能在直线路径中移动。

4.如权利要求2所述的基板抛光装置，其中所述基板支撑件能在轨道路径中移动。

5.如权利要求1所述的基板抛光装置，其中所述抛光压板中的至少两个上的所述抛光垫具有不同的材料性质。

6.如权利要求2所述的基板抛光装置，其中所述三个抛光压板上的所述抛光垫各自具有至少一种性质与其他抛光垫的至少一种性质不同的不同抛光垫。

7.如权利要求2所述的基板抛光装置，其中所述抛光压板中的两个上的所述抛光垫具有相同的材料性质。

8.如权利要求1所述的基板抛光装置，其中包括多个抛光压板的所述处理站是第一处理站，所述多个抛光压板上具有抛光垫，所述抛光压板和基板支撑件被配置为在其中保持基板，其中基板支撑件头能定位成同时地将支撑在其中的基板抵靠所述多个抛光压板中的至少两个抛光压板上的抛光垫定位；并且

所述抛光装置进一步包括第二抛光站，所述第二抛光站具有至少一个抛光压板和在其上的抛光垫，其中所述基板支撑件能从所述第一处理站移动以将在所述第一处理站中抛光的基板定位成抵靠所述第二抛光站中的所述抛光垫进行抛光。

9.一种用于基板抛光的方法，包括：

提供处理站，所述处理站中具有多个抛光压板，每个抛光压板上具有抛光垫，提供基板支撑件，所述基板支撑件被配置为在其中保持基板，其中

将所述基板支撑件定位成同时地将支撑在其中的基板抵靠所述多个抛光压板中的至少两个抛光压板上的所述抛光垫定位；并且

在两个抛光垫上同时地抛光所述基板。

10.如权利要求9所述的方法，其中所述基板支撑件能定位成同时地将支撑在其中的基板抵靠三个抛光压板上的所述抛光垫定位。

11.如权利要求10所述的方法，其中所述基板支撑件能在直线路径中移动。

12.如权利要求10所述的方法，其中所述基板支撑件能在轨道路径中移动。

13.如权利要求9所述的方法，其中所述抛光压板中的至少两个上的所述抛光垫具有不同的材料性质。

14.如权利要求10所述的方法，其中所述三个抛光板上的所述抛光垫各自具有至少一种性质与其他抛光垫的至少一种性质不同的不同抛光垫。

15.如权利要求10所述的方法，其中所述抛光压板中的两个上的所述抛光垫具有相同的材料性质。

16.如权利要求9所述的方法，其中所述多个抛光垫上具有抛光垫，所述抛光压板和基板支撑件被配置为在其中保持基板，其中所述基板支撑件头能定位成同时地将支撑在其中的基板抵靠所述多个抛光压板中的至少两个抛光压板上的抛光垫定位是第一处理站；

提供第二抛光站，所述第二抛光站具有至少一个抛光压板和在其上的抛光垫，其中

所述基板支撑件能从所述第一处理站移动以将在所述第一处理站中抛光的基板定位成抵靠所述第二抛光站中的所述抛光垫进行抛光。