[发明专利]离子注入装置及离子注入方法在审
| 申请号： | 202210197051.2 | 申请日： | 2022-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN115020175A | 公开（公告）日： | 2022-09-06 |
| 发明（设计）人： | 月原光国 | 申请（专利权）人： | 住友重机械离子科技株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/145;H01J37/30 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 夏斌 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及离子注入装置及离子注入方法，在具备线性加速装置的离子注入装置中，可加速射束能量的调整。本发明的离子注入装置(100)具备：离子源(10)，生成离子；引出部(10a)，通过从离子源(10)引出离子并使其加速来生成离子束；线性加速装置(22a～22c)，使通过引出部(10a)引出且被加速的离子束加速；静电加减速装置(52)，使从线性加速装置(22a～22c)输出的离子束加速或减速；及注入处理室(40)，进行将从静电加减速装置(52)输出的离子束照射到晶片的注入处理。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 注入 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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